전기화학적 방법에 의한 티타늄 임플란트 산화피막의 공정인자와 미세구조 특성에 관한 연구
- Author(s)
- 유철
- Issued Date
- 2006
- Abstract
- An anodic oxide film for dental implant on Ti plate has been fabricated by electrochemical method, and the characteristics of microporous Ti oxide film and rough morphology have been observed by SEM and energy dispersive spectroscopy analysis(EDS). The microporous oxide film for biomaterial applications was prepared by anodizing at constant voltage of 150 V in 1.2 M H2SO4+0.3 M H2O2 and 1.2 M H2SO4+0.3 M H3PO4 mixture solution. At the early stage of anodization the oxide film was uniform and less porous than that of the porous oxide film formed at higher voltage than 70 V of the anodizing process was led to increased gas evolution and also frequent sparking phenomena. For the effects of electrolytes on the microstructure of anodic film, the differents in the morphology and thickness of porous anodic films concerned mostly with the addition of H3PO4 acid. Identification of the phase of the formed anodic oxide film formed for 50 min in various solution was carried out using an XRD(Philips PW 1710). The crystallinity of the anodic oxide film was confirmed as an anatase containing rutile.
- Alternative Title
- A study on Microstructure Characteristics of Oxide film and Processing Factor of Titanium implant by Electrochemical Method
- Alternative Author(s)
- Yoo, Chull
- Affiliation
- 조선대학교 대학원
- Department
- 일반대학원 치의학과
- Advisor
- 고영무
- Awarded Date
- 2007-02
- Table Of Contents
- LIST OF TABLES = Ⅰ
LIST OF FIGURES = Ⅳ
ABSTRACTS = Ⅵ
제 1 장 서론 = 1
제 2 장 이론적 배경 = 3
제 1절 Ti 양극산화의 개요 및 역사적 배경 = 3
제 2절 Ti 양극산화의 생성기구와 구조 = 4
1. 산화층의 생성기구 = 4
2. 양극산화피막의 구조 = 8
3. 양극산화 처리의 종류 = 10
4. 생체용 티타늄의 특성 = 12
제 3절 임플란트 표면처리의 발전 추이 = 15
1. 1세대 임플란트 = 15
2. 2세대 임플란트 = 16
3. 3세대 임플란트 = 17
4. 4세대 임플란트 = 22
5. 양극산화 임플란트 = 23
제 3 장 실험 방법 = 24
제 1절 실험준비 = 24
제 2절 전처리 및 전해질 용액 = 24
제 3절 다공성 산화피막의 미세조직 관찰 = 24
제 4절 결정구조 및 생성기구 조사 = 24
제 4장 실험 결과 및 고찰 = 27
제 1절 Ti 양극산화시 스파크 방전 거동 = 27
제 2절 TiO2 산화 피막의 미세조직 및 특성 = 30
제 3절 양극산화 피막의 생성과 결정구조 = 36
제 4절 다공성 산화피막의 특성 = 45
1. 다공성 피막의 성장 = 45
2. 다공성 산화피막의 결정구조 = 45
제 5장 결론 = 56
-참고문헌- = 57
- Degree
- Doctor
- Publisher
- 조선대학교 대학원
- Citation
- 유철. (2006). 전기화학적 방법에 의한 티타늄 임플란트 산화피막의 공정인자와 미세구조 특성에 관한 연구.
- Type
- Dissertation
- URI
- https://oak.chosun.ac.kr/handle/2020.oak/6706
http://chosun.dcollection.net/common/orgView/200000234168
-
Appears in Collections:
- General Graduate School > 4. Theses(Ph.D)
- Authorize & License
-
- AuthorizeOpen
- Embargo2008-09-10
- Files in This Item:
-
Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.